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            UV光解除臭裝置工藝原理

            未知, 2020-07-30 11:07, 次瀏覽

            UV光解除臭裝置工藝原理
             
            1、運用高能高臭氧紫外線光束分化空氣中的氧分子產生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合,然后產生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用,對有機氣體及其它刺激性異味有馬到成功的鏟除作用。有機性氣體運用排風設備輸入到本凈化設備后,運用高能紫外線光束及臭氧對有機(異味)氣體進行協同分化氧化反響,使有機氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通過排風管道排出室外。
             
            2、高能離子空氣凈化系選用正負雙極電離技能。在電場作用下,離子產生器產生很多的 a 粒子, a 粒子與空氣中的氧分子進行磕碰而構成正負氧離子。正氧離子具有很強的氧化性,能在極短的時間內氧化分化甲硫醇、氨、硫化氫等污染因子,且在與 VOC 分子相觸摸后翻開有機揮發性氣體的化學鍵,通過一系列的反響后zui終生成二氧化碳和水等安穩無害的小分子。一起氧離子能損壞空氣中細菌的生存環境,下降室內細菌濃度。帶電離子能夠吸附大于本身分量幾十倍的懸浮顆粒,靠自重沉降下來,然后鏟除空氣中懸浮膠體到達凈化空氣的意圖
             
            3、催化劑(二氧化鈦)在遭到紫外線光照耀時生成化學生動性很強的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基,進犯有機物,到達降解有機物的作用。二氧化鈦歸于非溶出型資料,在完全分化有機污染物和殺滅菌的一起,本身不分化、不溶出,光催化作用耐久,并具有耐久的滅菌、降解污染物作用。
             


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